濕法粉碎機(jī)，納米濕法粉碎機(jī)，原料藥粉碎機(jī)，醫(yī)藥粉碎機(jī)，藥劑粉碎機(jī)，API粉碎機(jī)，IKN醫(yī)藥級(jí)粉碎機(jī)比普通粉碎機(jī)研磨細(xì)化能力更強(qiáng)，轉(zhuǎn)速為14000rpm，是它們的4-5倍；另外，IKN還有一款改進(jìn)型的粉碎機(jī)，在粉碎機(jī)的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤，有利于藥劑的進(jìn)一步分散細(xì)化和均質(zhì)。

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原料藥是指用于生產(chǎn)各類制劑的原料藥物，是制劑中的有效成份由化學(xué)合成、植物提取或者生物技術(shù)所制備的各種用來作為藥用的粉末、結(jié)晶、浸膏等，但病人無法直接服用的物質(zhì)。
                    

原料藥的藥效的發(fā)揮，一般取決于原料藥粒徑的細(xì)化，粒徑越小，藥效釋放的更*。原料藥一般都會(huì)分散到水中或者溶劑當(dāng)中（如卡波姆溶液），制得藥物混懸液，zui終得到醫(yī)藥成品。
醫(yī)藥混懸液zui終的體系很大程度上由原料藥的粒徑細(xì)化，以及原料藥的分散情況決定的。粒徑細(xì)化更小，分散更均勻，制得的醫(yī)藥混懸液才會(huì)更加穩(wěn)定并且藥效更高。 
                        

目前，許多藥廠一般都采用粉碎機(jī)進(jìn)行處理，一般采用3000rpm國產(chǎn)粉碎機(jī)，但是效果并不理想。而上海依肯高剪切粉碎機(jī)就不一樣的，更高的轉(zhuǎn)速，更精密的磨頭結(jié)構(gòu)，使得研磨的效果大大好于國產(chǎn)粉碎機(jī)。另外IKN又自主研發(fā)了改進(jìn)型的粉碎機(jī)，將高剪切粉碎機(jī)和高剪切分散機(jī)進(jìn)行結(jié)合，一體化設(shè)備，進(jìn)一步提高粉碎機(jī)的研磨能力，以及強(qiáng)化粉碎機(jī)的分散能力。

原料藥粉碎機(jī)CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用zuiJIA幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

IKN醫(yī)藥級(jí)粉碎機(jī)粉碎機(jī)結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)：一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。
               

醫(yī)藥級(jí)粉碎機(jī)CM2000系列的特點(diǎn)：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

醫(yī)藥粉碎機(jī)CM2000系列設(shè)備選型表

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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