蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 硅芯硅棒清洗機(jī)是一種用于半導(dǎo)體、光伏等領(lǐng)域的專用設(shè)備，主要針對(duì)硅芯、硅棒表面的污染物、氧化層及殘留雜質(zhì)進(jìn)行高效清洗。廣泛應(yīng)用于單晶硅棒、半導(dǎo)體硅芯、石英坩堝清洗...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 深硅刻蝕設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于高深寬比硅結(jié)構(gòu)加工的核心設(shè)備，廣泛應(yīng)用于MEMS、3D封裝及功率器件領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 8寸槽式清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體、光伏及精密工業(yè)設(shè)計(jì)的濕法清洗設(shè)備，支持8英寸晶圓或硅片的批量處理。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造（如光刻前清洗）、光伏硅片處理等，是保障產(chǎn)品良...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 酸孔蝕刻機(jī)是一種利用酸性溶液化學(xué)腐蝕原理進(jìn)行蝕刻的設(shè)備。它通過控制酸性溶液的濃度、溫度等參數(shù)，對(duì)材料表面進(jìn)行精確蝕刻，可形成特定圖案或結(jié)構(gòu)。在半導(dǎo)體、PCB板制...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備。它主要用于清除半導(dǎo)體晶圓表面的各種污染物，如灰塵、有機(jī)物、金屬離子等。其工作原理多樣，常見的有濕法清洗和干法清洗。濕法...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備是芯片制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬殘留）的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過物理（超聲波/兆聲波）或化學(xué)（濕法腐蝕）手段實(shí)現(xiàn)納米級(jí)潔凈度...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物的關(guān)鍵設(shè)備，通過濕法化學(xué)、超聲波、兆聲波或刷洗等技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度清潔。其核心工藝包括化學(xué)腐蝕、流體沖刷、顆粒過濾及干...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法去膠清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除光刻膠殘留的關(guān)鍵設(shè)備，主要通過化學(xué)溶劑（如NMP、PGMEA、TMAH等）溶解或分解光刻膠，結(jié)合物理沖刷（噴淋、超聲波或兆聲...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕制程清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓、掩模版等表面污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬沉積物）的核心設(shè)備，通過化學(xué)濕法、超聲波/兆聲波空化及流體控制技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度清...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 掩模板清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除光掩模版表面污染物（如顆粒、光刻膠殘留、金屬沉積物）的關(guān)鍵設(shè)備，通過濕法化學(xué)清洗、超聲波空化或等離子體干法處理，確保掩模圖案精...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體爐管清洗機(jī)是晶圓制造中用于清除擴(kuò)散爐、氧化爐等設(shè)備爐管內(nèi)壁污染物（如硅沉積物、氧化層、碳顆粒）的關(guān)鍵設(shè)備。其采用高溫干法氧化或濕法化學(xué)腐蝕技術(shù)，結(jié)合射頻（...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體預(yù)清洗機(jī)是晶圓制造前道工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，專為去除硅片表面微粒污染、有機(jī)物殘留、氧化層及金屬雜質(zhì)而設(shè)計(jì)。本設(shè)備通過集成濕法化學(xué)清洗、兆聲波空化、等離子體活化...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 部件全自動(dòng)清洗機(jī)專為精密工業(yè)部件設(shè)計(jì)，集超聲波空化、高壓噴淋與熱風(fēng)干燥于一體，實(shí)現(xiàn)油污、切削液及微粒的高效清除。設(shè)備支持定制化多槽清洗流程，兼容金屬、塑料、陶瓷...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)晶圓清洗系統(tǒng)專為半導(dǎo)體前道制程設(shè)計(jì)，集成超聲波/兆聲波清洗、化學(xué)濕法腐蝕、離心干燥等模塊化工藝，支持12英寸大尺寸晶圓處理。設(shè)備采用多槽聯(lián)動(dòng)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)SC...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 掩膜版清洗設(shè)備是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，用于去除表面的顆粒、有機(jī)物及金屬污染，確保光刻圖形精度。其核心技術(shù)包括超聲波/兆聲波清洗（剝離納米級(jí)顆粒）、化學(xué)濕法...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 芯矽科技Parts Cleaner清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高效濕法清洗設(shè)備，覆蓋實(shí)驗(yàn)室研發(fā)級(jí)至全自動(dòng)量產(chǎn)級(jí)需求，以技術(shù)和創(chuàng)新設(shè)計(jì)服務(wù)于芯片制造、封裝及設(shè)備維...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法刻蝕清洗機(jī)專為半導(dǎo)體、金屬精密加工及MEMS制造設(shè)計(jì)，通過化學(xué)濕法工藝實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)的材料去除與表面處理。設(shè)備集成自動(dòng)化刻蝕液噴淋系統(tǒng)，支持多種配方（如HF...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 治具清洗機(jī)是用于清洗工業(yè)治具的專用設(shè)備。它通過高壓水流、化學(xué)藥劑浸泡或超聲波振動(dòng)等方式，有效去除治具表面的污垢、油污、加工碎屑等雜質(zhì)。該設(shè)備具有高效清洗、節(jié)水節(jié)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-13 在線留言
詳細(xì)摘要： 去膠清洗機(jī)是一種專門用于去除物體表面光刻膠的自動(dòng)化設(shè)備。在半導(dǎo)體制造、微納加工等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。通常具備多個(gè)功能模塊，如預(yù)清洗、主清洗和漂洗等。預(yù)清洗模塊通...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-13 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)RCA清洗設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體、光電等產(chǎn)業(yè)晶圓清洗的高效設(shè)備。它基于RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗流程，通過多個(gè)清洗槽，利用不同的清洗劑和清洗工藝，如SPM、OESD等步...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-13 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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