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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱西安中川光電科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地西安市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2025/6/1 10:07:17
  • 訪問次數(shù)31
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西安中川光電科技有限公司,成立于2001年,是專門從事光電產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高科技企業(yè)。目前公司擁有自主研發(fā)產(chǎn)品60多個型號,業(yè)內(nèi)品牌聲譽(yù)良好,具有一批忠實穩(wěn)定用戶,年產(chǎn)值逾千萬。

公司位于西安*開發(fā)區(qū),是國家光電子成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化基地(西安)的重點企業(yè),是西安機(jī)器視覺研究發(fā)展中心的核心企業(yè)。

公司生產(chǎn)的RLK系列光電傳感器與光電檢測儀器,遵循 ISO9001質(zhì)量管理體系和“6s”現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)已有10年,產(chǎn)品品質(zhì)達(dá)到國際水平,廣泛應(yīng)用于紡織、冶金、印刷、包裝、用戶遍及全國各地,并出口印度、埃及、越南、巴基斯坦、印度尼西亞、孟加拉等各國。

公司專注光電成像部件的研發(fā)、生產(chǎn)、OEM與ODM 定制,經(jīng)過多年的不懈努力與技術(shù)積累,公司研發(fā)、生產(chǎn)的PO系列數(shù)字相機(jī)已經(jīng)有十余個型號,數(shù)十個規(guī)格。公司始終注重產(chǎn)品質(zhì)量的控制,建立并通過GJB9001B質(zhì)量管理體系,在原材料、元器件、工藝、調(diào)試、測試、檢驗、包裝、記錄等全部生產(chǎn)環(huán)節(jié),精益求精,為多個預(yù)研與型號任務(wù)提供配套服務(wù)。

公司宗旨:不斷創(chuàng)新進(jìn)取、促進(jìn)光電技術(shù)應(yīng)用

經(jīng)營管理理念--- “ 專業(yè)、精心、科學(xué)、和諧 ”

公司愿景--- 專業(yè)的、有影響力的光電企業(yè)


價值觀:企業(yè)要為社會和客戶創(chuàng)造價值    要為股東和員工創(chuàng)造價值 員工要為企業(yè)和他人創(chuàng)造價值

品牌觀:樹“中川光電”品牌,促企業(yè)發(fā)展



人才觀:人才是公司重要資源,在于發(fā)現(xiàn)、關(guān)心、尊重、培養(yǎng)

團(tuán)隊觀:塑造職業(yè)的、和諧的團(tuán)隊

學(xué)習(xí)觀:學(xué)習(xí)是企業(yè)不斷發(fā)展的基石

成長觀:與企業(yè)一起成長有前途


RLK 系列光電傳感器,糾偏傳感器,對射槽型,同軸反射型,
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國際的新型XAFS/XES光譜儀
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀 產(chǎn)品信息

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀


RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國際的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結(jié)構(gòu);采用的、的SBCA晶體,實現(xiàn)X射線的單色掃描;采用小功率的X-Ray源,使研究試驗室內(nèi)就能夠方便運(yùn)行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究,能夠獲得掃描范圍5keV-12keV,分辨率優(yōu)于1eV的譜線。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,將信號探測、掃描控制、數(shù)據(jù)顯示高度集成化,使用前只需簡單的參數(shù)設(shè)置、校準(zhǔn)確認(rèn),即可方便進(jìn)行研究試驗。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,作為一種目前國際型的儀器,為各種材料研究分析拓展手段,用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究,而不再受到條件限制??蓮V泛應(yīng)用于各種材料研究分析領(lǐng)域,包括納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等。將成為材料研究必選設(shè)備。

產(chǎn)品特點(Features)

新原理新構(gòu)造:居于新原理和新構(gòu)造的X-ray光譜儀;

高分辨率:    采用的、的SBCA晶體作為核心器件,實現(xiàn)X射線單色掃描,分辨率達(dá)到1eV;

高品質(zhì)能譜曲線:與同步輻射相當(dāng)品質(zhì)的能譜曲線;

試驗室儀器:  在試驗室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到條件限制;

高集成性:    儀器集成探測、控制、分析,軟件運(yùn)行于Windows操作系統(tǒng);

應(yīng)用面廣:    納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等各種材料研

究分析領(lǐng)域

技術(shù)指標(biāo)(Specification)

型號Model

RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀

原理Principle

SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描

能量范圍

Energy Range

5KeV-12KeV

能量分辨率

Energy Resolution

0.5-1.5eV

工作模式

Working Mode

XAS/XES

布拉格角范圍

Bragg Angle Range

65°-85°

X射線源

X-ray Tube

10W(Max)50KV@200uA(X 光點直徑~0.5mm)

光學(xué)系統(tǒng)

Optics System

SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Roland 直徑500mm)

探測器Detector

半導(dǎo)體電制冷SDD

通訊接口

Communication  interface

RS-232

工作電壓

Power Supply

220VAC

工作溫度

Temperature

-10℃  ~ +50

外形尺寸Dimension

1200(L)*1200(W)*1100(H)

重量Weight

350Kg

軟件Software

RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)

 

 




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