XRF（X 射線熒光）技術(shù)

    XRF（X 射線熒光）是一種用于測(cè)定材料中元素組成的無損分析技術(shù)。XRF 技術(shù)通過分析可樣品由一級(jí) X 射線源激發(fā)而散射出的熒光（或二級(jí)）X 射線，來確定樣品的化學(xué)屬性。樣品中的每一種元素受激發(fā)后都會(huì)產(chǎn)生一組特定的熒光 X 射線（“指紋”），因此對(duì)于材料化學(xué)成分定量及定性分析而言，XRF 光譜法是一種非常好的技術(shù)。

X 射線熒光過程

1.  用受控 X 射線管發(fā)出的高能 X 射線照射固體或液體樣品。

2.  當(dāng)樣品中的某個(gè)原子被能量充足（大于原子的 K 或 L 殼層結(jié)合能）的 X 射線撞擊時(shí)，就會(huì)從原子的一個(gè)內(nèi)軌道殼層中逐出一個(gè)電子。

3.  原子恢復(fù)穩(wěn)定性，并使用來自原子更高能量軌道殼層之一的電子內(nèi)軌道殼層的空缺。

4.  電子通過釋放熒光 X 射線降至較低能量狀態(tài)。該 X 射線的能量等于電子兩個(gè)量子態(tài)之間的特定能量差。這種能量的測(cè)量是 XRF 分析的基礎(chǔ)。

XRF 光譜解讀

大多數(shù)原子都有幾個(gè)電子軌道（例如 K 殼層、L 殼層、M 殼層）。當(dāng) X 射線能量導(dǎo)致電子進(jìn)出這些殼層時(shí)，會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)度不同的 XRF 峰，并且將以圖表形式在光譜中顯示 X 射線強(qiáng)度峰與能量峰的函數(shù)關(guān)系。峰能量用于識(shí)別元素，峰高度/強(qiáng)度通常表示其濃度。

能量色散 X 射線熒光 (EDXRF)

EDXRF 是便攜式 X 射線熒光分析儀中常用的技術(shù)。EDXRF 設(shè)計(jì)用于同時(shí)分析多組元素，以便快速測(cè)定樣品中的相應(yīng)元素及其相對(duì)濃度，換句話說，即樣品的元素化學(xué)成分。

欲了解如何使用這些信息，請(qǐng)參考廢金屬?；厥丈绦枰_識(shí)別多種合金等級(jí)，在材料轉(zhuǎn)移點(diǎn)快速分析其化學(xué)成分，并向客戶保證產(chǎn)品的質(zhì)量。金屬合金專為不可互換的特殊功能而設(shè)計(jì)；成分的微小變化就會(huì)導(dǎo)致明顯不同的機(jī)械性能。幸運(yùn)的是，手持 XRF 分析儀可以很容易地區(qū)分這些等級(jí)。