FTO導(dǎo)電玻璃的原理及其應(yīng)用
　　
　　FTO導(dǎo)電玻璃因其特殊性，在染料敏化太陽能電池，電致變色和光催化方面對其透光率和導(dǎo)電率都有很高的要求，其綜合性能常用直屬FTC來評價：FTC＝T10／RS。T是薄膜的透光率RS是薄膜的方阻值；在光學(xué)應(yīng)用方面，則要求其對可見光有好的透射性和對紅外有的反射性。對其基本要求是：①表面方阻低，②透光，③面積、重量輕，④易加工、耐沖擊。
　　
　　SnO2是一種對可見光透明的寬帶隙氧化物半導(dǎo)體,禁帶寬度3.7-4.0eV,具有正四面體金紅石結(jié)構(gòu)。在摻了氟之后，SnO2薄膜由于具有對可見光透光性好、紫外吸收系數(shù)、電阻率低、化學(xué)以及室溫下抗酸堿能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
　　
　　導(dǎo)電玻璃是摻雜氟的SnO2導(dǎo)電玻璃（SnO2:F），簡稱為FTO。FTO玻璃可以做為ITO導(dǎo)電玻璃的替換用品，用于液晶顯示屏，光催化，薄膜太陽能電池基底,染料敏化太陽能電池、電致變色玻璃等領(lǐng)域等方面，市場需求.
　　
　　用于制備FTO薄膜的方法主要包括氣相沉積法（CVD）、濺射、熱蒸發(fā)法、溶膠凝膠法。目前FTO鍍膜玻璃生產(chǎn)方式主要有兩種：化學(xué)氣相沉積法（APCVD）和磁控濺射法（PVD）。化學(xué)氣相沉積法又分為在線化學(xué)氣相沉積法和離線化學(xué)氣相沉積法及低壓化學(xué)氣相沉積法（LPCVD），磁控濺射法是目前zui熱門的研究方向。
　　
　　在線化學(xué)氣相沉積法是在浮法生產(chǎn)過程中進(jìn)行的在線高溫沉積SnO2：F，是目前光伏FTO鍍膜的主要生產(chǎn)方式，代表廠商AGC。其產(chǎn)品特點(diǎn)是生產(chǎn)過程中直接產(chǎn)生霧度，可以生產(chǎn)尺寸的玻璃，膜層穩(wěn)定性，性能突出，易于存儲運(yùn)輸，但透光性能和導(dǎo)電性能相對較差。
　　
　　離線化學(xué)氣相沉積法是在白浮法玻璃生產(chǎn)后加熱，再進(jìn)行化學(xué)氣相沉積得到光伏FTO鍍膜玻璃。這種生產(chǎn)方式適宜深加工企業(yè)發(fā)展，投入低，但過于耗能，產(chǎn)品特性類似于在線CVD方式。
　　
　　低壓化學(xué)氣相沉積法類似于離線化學(xué)氣相沉積法，但沉積溫度低，并且可以鍍前電極或者背電極，是一種有前途的生產(chǎn)方法。
　　
　　作為高新技術(shù)，我國目前zui高只能開發(fā)出可見光平均透光率達(dá)到80％左右的FTO導(dǎo)電玻璃，還沒有過90％。在高透光率低方阻透明導(dǎo)電膜的研究領(lǐng)域里，需要做深入的研究。目前我國需要進(jìn)一步從材料、工藝參數(shù)制定、多層膜光學(xué)設(shè)計(jì)等方面來提高透明導(dǎo)電膜的綜合性能，使其可見光平均透光率達(dá)到92%以上，從而滿足高技術(shù)的需要。
　　
　　FTO導(dǎo)電玻璃的透光率和霧度：
　　
　　一束平行光束入射某介質(zhì)（如透明塑料）時，由于物質(zhì)光學(xué)性質(zhì)的不均勻性；表面缺陷，內(nèi)部組織的不均勻，氣泡和雜質(zhì)存在等，光束會改變方向（擴(kuò)散和偏折），產(chǎn)生的部分雜亂無章光線稱散射光。
　　
　　上規(guī)定用透過試樣而偏離入射光方向的散射光通量與透射光通量之比用數(shù)來表示，這是所謂霧度。霧度的試樣給人的感覺將加模糊。
　　
　　光線在透過試樣時還會產(chǎn)生損失，即穿過試樣的透射光通量永遠(yuǎn)小于照射到試樣上的入射光通量。兩者之比，用數(shù)表示，上定義為透光率。
　　
　　引起透光率下降的原因是試樣兩個表面對光線的反射和試樣對入射光線的波長或部分波長的光能量吸收等。
　　
　　在測試樣品的霧度和透光率過程中，必須計(jì)量入射光通量（T1），透射光通量（T2）、儀器散射光通量（T3），試樣的散射光通量（T4）。
　　
　　透光率：Tt=T2/T1×
　　
　　霧度：H=T4/Tt×，其中T3為0