包括光刻！美國再度禁運6項關鍵技術

2020-10-26 09:11:33來源：芯智訊關鍵詞：光刻機芯片閱讀量：23949

導讀：近日美國商務部工業(yè)安全局（BIS）宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》（EAR）的商務部管制清單（CCL）中。

　　近日美國商務部工業(yè)安全局(BIS)宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》(EAR)的商務部管制清單(CCL)中。

　　據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術總數(shù)已經(jīng)達到了37項。

　　美國商務部在發(fā)布的公告中寫道：“此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰(zhàn)略.”

　　“關鍵技術和新興技術國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟事務中保持技術地位的重要戰(zhàn)略部署。”美國商務部部長Wilbur Ross說道，并表示“美國商務部已經(jīng)對30多種新興技術的出口實施了管控，我們將繼續(xù)評估和確定未來還有哪些技術需要管控。”

　　票選“對美國國家安全起到至關重要的作用”的6大技術出爐

　　公告指出。新的商業(yè)出口管制是依照2019年12月全體大會上達成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術出口管制瓦森納協(xié)議》實施的。制定和實施對新興技術的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》(ECRA)的要求后，終確定管控下列幾項新興和基礎性技術的出口將對美國國家安全起到至關重要的作用。

　　本次被增列商業(yè)管制清單的六項新興技術為：

　　- 混合增材制造/計算機數(shù)控工具；

　　- 特定的計算光刻軟件；

　　- 用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術；

　　- 有限的數(shù)字取證分析工具；

　　- 用于監(jiān)測電信服務通信的某些軟件

　　- 亞軌道航天器

　　美國實施出口管制的六大技術，都與芯片制造中重要的設備光刻機息息相關，尤其是當下5nm芯片已成為芯片時代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機在半導體制程的重要意義可想而知。

　　“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維(3D)效應、掩模陰影效應、光照方向效應、遠距離眩光效應、鄰近效應、抗蝕劑中的隨機性效應以及源掩模優(yōu)化有關的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；而“用于為5nm生產(chǎn)精加工芯片的技術”旨在應用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對直徑300 mm的硅晶圓進行切片、打磨和拋光以達到某些標準所需要的技術，以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術以及局部光散射體(LLS)。以上兩類技術都受到國家安全和反恐管制的約束。

　　目前全世界能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML大的兩大股東資本集團(MSCI)和貝萊德集團(BlackRock,Inc.)都是美國公司，其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。

　　美國商務部此舉相當于直接封鎖了芯片的制造技術。從目前來看，中國作為美國芯片產(chǎn)品大的采購國之一，受出口管制影響是巨大的。

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