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南大光電高端ArF光刻膠獲得突破 未來可用于7nm工藝

2021-06-02 09:15:03來源：快科技 關(guān)鍵詞：芯片研制光刻設(shè)備閱讀量：20857

導(dǎo)讀：在光刻機市場上，國內(nèi)自給率極低，歐美日等地區(qū)的廠商占據(jù)主要份額，JSR、信越化學(xué)等TOP5廠商占據(jù)全球87%的份額。
　　在半導(dǎo)體制造上，國內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。南大光電日前宣布，該公司研發(fā)的高端ArF光刻機已經(jīng)獲得了國內(nèi)某企業(yè)的認證，用于55nm工藝制造。
 
　　南大光電于5月31日晚間發(fā)布公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。
 
　　不過南大光電沒有透露具體的客戶名字。
 
　　在光刻機市場上，國內(nèi)自給率極低，歐美日等地區(qū)的廠商占據(jù)主要份額，JSR、信越化學(xué)等TOP5廠商占據(jù)全球87%的份額。
 
　　光刻膠有不同的技術(shù)類別，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技術(shù)之一。
 
　　雖然南大光電的ArF光刻膠現(xiàn)在通過的是55nm工藝認證，但ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造(如邏輯芯片、存儲芯片、AI 芯片、5G芯片和云計算芯片等)。
 
　　(原標(biāo)題：南大光電高端ArF光刻膠獲得突破 未來可用于7nm工藝)
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